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2025-09-09 03:52:01 9次浏览

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闭环之困：损耗与机遇并存

ITO靶材在溅射镀膜过程中利用率通常仅30%左右，大量含铟废料（废旧靶材、边角料、镀膜腔室废料）随之产生。过去，这些价值极高的废料往往被简单处理或堆积。建立从“废靶材→再生铟→新靶材”的闭环体系，成为破解资源约束的黄金路径。

在分离铟和其他金属和材料时，可以采用几种方法，包括选择性溶解、溶剂萃取、离子交换和沉淀。选择性溶解使用化学浸出剂选择性地溶解铟，而保持其他金属和材料不变。溶剂萃取使用有机溶剂选择性地提取铟。离子交换则通过树脂吸附铟离子，同时留下其他离子。沉淀法使用化学试剂使铟从溶液中沉淀出来，而将其他金属和材料留在溶液中。

ITO靶粉回收过程通常包括以下几个环节：

1.收集与分类。首先需要将生产过程中产生的废靶材、切削碎屑、镀膜残渣等进行分类收集。不同类型的废料可能需要采用不同的处理方式，因此分类是确保后续处理效率的基础。

2.预处理。废料中可能含有油脂、灰尘或其他杂质，需通过清洗、烘干等方式进行初步处理。对于块状废料，可能需要通过机械破碎、研磨等方式将其转化为粉末状，以便于后续化学处理。

3.溶解与浸出。将预处理后的靶粉与酸性溶液（如盐酸或硫酸）反应，使金属成分溶解到溶液中。这一步骤需要控制温度、浓度和反应时间，以提高金属的浸出率。

4.分离与纯化。通过化学沉淀、溶剂萃取或离子交换等方法，将溶液中的铟与其他金属（如锡、铁等）分离开来。随后，通过进一步提纯，获得高纯度的铟化合物。

5.还原与加工。将纯化后的铟化合物通过电解或化学还原法转化为金属铟，并可进一步加工成符合生产要求的ITO靶材。

随着电子行业的发展，ITO靶材的需求量逐年增长，推动了对废靶材回收的重视。目前，一些大型电子制造企业已开始建立自身的回收体系，或与专业回收公司合作，实现生产废料的循环利用。技术进步也使得回收效率和金属回收率不断提高，进一步降低了生产成本。